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ENDA-C2000煙氣中NH3分析系統市場

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產品型號：	ENDA-C2000
原產地：	北京

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概要它可以對氨干式脫硝裝置排放出來的尾氣中的殘留NH3濃度進行連續檢測。采用了無漂移新型化學發光法分析儀(CLA)，檢測器實現了高度化。并且，由于使用了半導體傳感器，所以工作奉命長。分析部和操作部的功能集中統一，采用了在前面進行操作方式，并且完善了自我診斷功能等，力求使用便利。可監測脫硝催化劑的劣下、限制NH3的注入量、防止硫酸銨結晶物的生成等，在設備的監測、控制方面可以發揮出威力。特征搭載有無漂移新型化學發光法分析儀(CLA)。實現了NH3、NOx最小量程0&#12316；10ppm。采用了利用氧氣常磁性的劃時代磁壓方式的氧氣分析儀。實現了優異的耐久性、高精度、高速響應。具有從低濃度到高濃度的大范圍量程。采用了大幅提高了操作性的前面操作方式。具有可通過微機對檢測狀態進行監測、控制、運算處理、存儲等功能，容易使用，更加方便進行維護。完善的自我診斷功能還可以完全滿足設置條件多樣化的需求。規格檢測成分和量程 NH3: (標準量程)20&#12316；100ppm (可選項量程)10ppm&#12316；20ppm以下 (量程比)10倍以內 NOx: (標準量程)20&#12316；100ppm (可選項量程)10ppm&#12316；20ppm以下 (量程比)10倍以內 O2: (標準量程)5&#12316；25vol% (量程比)5倍以內 (量程數各成分最大3量程) 再現性 ±0.5FS％、如果包括可選項量程時，±1.0FS％(周圍溫度、-５&#12316；40℃的情形) 響應速度裝置入口:T90、90秒以下校正氣體入口:T90、70秒以下

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